Resumen

Para evaluar la respuesta química fotoinducida de este compuesto se prepararon finas capas de TiO2 cultivadas sobre unas pocas capas de grafeno. El grafeno se cultivó sobre láminas de cobre por descomposición de acetileno en un aparato estándar de deposición química en fase vapor. Posteriormente, el grafeno se transfirió a un sustrato de silicio, sobre el que creció el dióxido de titanio para formar un compuesto TiO2/FLG/SiO2/Si. La formación de cada material estratificado se verificó mediante espectroscopia Raman y la morfología se caracterizó mediante microscopia electrónica de barrido. La evaluación fotoelectroquímica del compuesto resultante, utilizándolo como fotoánodo, se llevó a cabo con un potenciostato, un simulador solar y una configuración de tres electrodos. La respuesta electroquímica indica que el nuevo compuesto conserva las propiedades fotoactivas medias del material base y, al mismo tiempo, muestra una respuesta transitoria singular en la que parecen derivarse beneficios explícitos de la combinación FLG/TiO2.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanofibras
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanofibers
• Palabras claves:aparato estándar de deposición química de vapor, capas finas de tio2, propiedades fotoactivas medias, respuesta transitoria singular, flg, grafeno, compuesto, espectroscopia raman, compuesto si, combinación tio2
• Keywords:standard chemical vapor deposition apparatus, thin tio2 layers, average photoactive properties, singular transient response, flg, graphene, composite, raman spectroscopy, si composite, tio2 combination