Esta revisión resume los resultados de nuestro estudio de la aplicación de la tecnología de deposición asistida por haz de iones (IBAD) para la creación de estructuras nanoporosas de película fina que pueden absorber más del 6 % en peso de hidrógeno. Se presentan datos de modelización matemática que destacan la formación de estructuras y la creación de componentes de las películas durante su deposición en el momento del bombardeo simultáneo por haz mixto de iones de nitrógeno y helio con energía de 30 keV. Los resultados de la microscopía electrónica de transmisión de alta resolución revelaron que las películas de VNx están formadas por partículas de 150-200 nm, cuyos límites contienen nanoporos de 10-15 nm de diámetro. Las propias partículas están formadas por nanogranos de 10-20 nm orientados aleatoriamente. Los límites de los granos también contienen nanoporos (3-8 nm). El examen de las características de absorción de las películas de VNx, TiNx y (V,Ti)Nx mostró que la cantidad de hidrógeno absorbido depende muy poco de la composición química de las películas, pero está determinada por la estructura porosa. La cantidad de hidrógeno absorbido a 0,3 MPa y 20°C es del 6-7 % en peso, mientras que la mayor parte del hidrógeno se acumula en los límites de grano y en los poros. Las películas empiezan a liberar hidrógeno incluso a 50°C, y se desorbe completamente en el rango de temperaturas de 50-250°C. Se observó que la resistencia eléctrica de las películas durante la desorción de hidrógeno aumenta 104 veces.
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