Resumen

Se depositaron películas delgadas de óxido de indio y zinc (IZO) sobre sustrato de tereftalato de polietileno (PET) con potencias de plasma variables (de 100 W a 300 W) utilizando la técnica de pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia (RF) y dispositivos de electroluminiscencia (EL). Las películas de IZO obtenidas mediante este proceso se trataron con potencias de plasma de oxígeno utilizando el sistema de deposición química en fase vapor mejorada por plasma (PECVD). Tras este tratamiento, se observaron las propiedades microestructurales, eléctricas y ópticas de las películas IZO. El resultado mostró que las películas IZO/PET se fabricaron con la resistividad más baja (2,83×10-3 Ω-cm), mientras que la caracterización óptica mostró la transmitancia máxima del 95% en la región visible con una morfología suave y una buena estructura cristalina, afectada por los 300 W de potencia de plasma con la concentración óptima de portadores (4,93×1021 cm-3) y la movilidad hall (42,12 cm2/V-seg), respectivamente. También se investigaron las propiedades de luminancia y la eficiencia EL, que mostraron un punto máximo de 300 W de potencia de plasma con 84 cd/m2 y 0,924 lm/W. Se encontró que las propiedades de la película eran responsables de producir y mejorar el rendimiento del sustrato IZO/PET, adecuado para la visualización de los dispositivos.

• Materias:Energía solar Termodinámica Energía limpia Biofotónica Efecto fotoeléctrico
• Subjects:Solar energy Thermodynamics Clean energy Biophotonics Photoelectric effect
• Palabras claves:potencia de plasma, izo, películas izo, deposición química de vapor, óxido de indio y zinc, concentración óptima del portador, potencias de plasma de oxígeno, dispositivos, eficiencia el, películas pet
• Keywords:plasma power, izo, izo films, chemical vapor deposition, indium zinc oxide, optimum carrier concentration, oxygen plasma powers, devices, el efficiency, pet films