Resumen

Los nuevos desarrollos de superficies de implantes antimicrobianos dopados con iones de cobre (Cu) pueden minimizar el riesgo de infecciones asociadas a los implantes. Sin embargo, la evaluación experimental de la liberación de Cu está influenciada por varios parámetros de prueba. El objetivo de nuestro estudio fue evaluar las características de liberación de Cu in vitro en función del fluido de almacenamiento y la rugosidad de la superficie. Se aplicó la implantación iónica de Cu por inmersión en plasma (Cu-PIII) y el proceso de sputtering por magnetrón pulsado de una película de cobre de titanio (Ti-Cu) a muestras de aleación de titanio (Ti6Al4V) con diferentes acabados superficiales del material del implante (pulido, hidroxiapatita y chorreado de corindón). Las muestras se sumergieron en agua bidestilada, suero humano o medio de cultivo celular. Posteriormente, se midió la concentración de Cu en el sobrenadante mediante espectrometría de absorción atómica. El fluido de prueba, así como la rugosidad de la superficie, pueden alterar significativamente la liberación de Cu, por lo que la mayor liberación de Cu se determinó para las muestras con superficies chorreadas de corindón almacenadas en medio celular.

• Materias:Bioquímica Microbiología Metales Ácido desoxirribonucleico (ADN) Técnica In Vitro
• Subjects:Biochemistry Microbiology Metals Deoxyribonucleic acid (DNA) In Vitro Technique
• Palabras claves:rugosidad de la superficie, liberación de cu, proceso de sputtering de magnetrón, mayor liberación de cu, muestra, cu, implantación de iones de inmersión, espectrometría de absorción atómica, película de cobre de titanio, plasma de inmersión de iones
• Keywords:surface roughness, cu release, magnetron sputtering process, highest cu release, sample, cu, immersion ion implantation, atomic absorption spectrometry, titanium copper film, plasma immersion ion