Resumen

Se propone un método novedoso que utiliza la metodología de superficie de respuesta (RSM) para el análisis eficaz de la influencia combinada de la geometría del cabezal de escritura y las propiedades del medio sobre el rendimiento del campo de escritura. El método consta de dos módulos principales: (1) un modelo paramétrico del cabezal de escritura basado en el análisis del campo electromagnético por elementos finitos y (2) un modelo efectivo del gradiente del campo de escritura basado en RSM. Utilizando el método propuesto, se analiza el rendimiento de escritura de un cabezal de escritura con blindaje asimétrico para la grabación magnética en soportes con patrón de bits (SMR-BPM). Los resultados muestran que la brecha de blindaje y la coercitividad del medio afectan principalmente al gradiente del campo efectivo de escritura (EWF) y que la brecha lateral de blindaje tiene un impacto secundario. Más importante aún, el análisis muestra un fuerte efecto de interacción entre las influencias de la geometría del cabezal de escritura y la coercitividad del medio en el gradiente del EWF, lo que indica la necesidad de un diseño inclusivo.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos Nanomateriales
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes Nanomaterials
• Palabras claves:geometría del cabezal, coercitividad del medio, modelo de gradiente del campo de escritura efectivo, modelo paramétrico del cabezal de escritura, campo de escritura efectivo, análisis del campo electromagnético, metodología de superficie de respuesta, brecha lateral de apantallamiento, brecha posterior de apantallamiento, grabación magnética apantallada
• Keywords:head geometry, medium coercivity, effective writing field gradient model, parametric writing head model, effective writing field, electromagnetic field analysis, response surface methodology, shielding side gap, shielding trailing gap, shingled magnetic recording