Biblioteca122.294 documentos en línea

Artículo

Performance Analysis of Ti-Doped In2O3 Thin Films Prepared by Various Doping Concentrations Using RF Magnetron Sputtering for Light-Emitting DeviceAnálisis del rendimiento de láminas delgadas de In2O3 dopadas con Ti preparadas con distintas concentraciones de dopaje mediante pulverización catódica por magnetrón de RF para dispositivos emisores de luz

Resumen

Se estudiaron experimentalmente las influencias de las cantidades de dopaje de TiO2 en la estructura y las propiedades eléctricas de las películas de In2O3. En este estudio, se depositaron conducciones de óxido de indio dopado con titanio (ITiO) sobre sustrato de vidrio mediante el sistema de pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia (RFS) de doble blanco en diferentes condiciones de blancos de In2O3 dopados con Ti, desde Ti-0,5 wt% hasta Ti-5,0 wt%, junto con 10 mTorr y 300 W de presión de control de potencia de RF que se utilizó como célula de electroquimioluminiscencia (ECL) transparente y rentable. A partir de este proceso, se informa de la correlación entre las propiedades estructurales, ópticas y eléctricas. Se descubrió que el mejor 1,14×10-4 Ω cm de resistividad era de Ti-2,5 wt% con la mayor concentración de portadores (1,15 × 1021 cm-3), movilidad Hall (46,03 cm2/V-s), transmitancia relativa (82%) y eficiencia ECL (0,43 lm-W-1) con morfología bien estructurada cristalina y lisa. Como resultado, los investigadores pueden ser responsables de la preparación de películas delgadas de ITiO con microestructura significativamente mejorada y el rendimiento de la intensidad de la luz para la eficacia de los dispositivos de visualización, así como su proceso simple y de alto rendimiento.

  • Tipo de documento:
  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
  • Tamaño: Kb

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento

  • Titulo:Performance Analysis of Ti-Doped In2O3 Thin Films Prepared by Various Doping Concentrations Using RF Magnetron Sputtering for Light-Emitting Device
  • Autor:Wittawat, Poonthong; Narong, Mungkung; Pakpoom, Chansri; Somchai, Arunrungrusmi; Toshifumi, Yuji
  • Tipo:Artículo
  • Año:2020
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi
  • Materias:Energía solar Termodinámica Fotoquímica Fotocatálisis Efecto fotoeléctrico
  • Descarga:0