Resumen

Mediante análisis espectroscópico se estudió el plasma y las películas delgadas de cobre obtenidas por la técnica de deposición de láser pulsado (PLD). Se utilizó la espectroscopía de emisión óptica para analizar los espectros de emisión del plasma de cobre producidos con un láser Nd:YAG de 1064 nm que ablacionó el blanco de cobre. La película delgada creció sobre un sustrato amorfo (vidrio) a temperatura ambiente y se varió la presión del argón desde 1,2 Pa hasta 26,6 Pa. Se obtuvieron líneas de cobre neutro y de ion de cobre con una significativa diferencia en sus intensidades, lo que se relaciona con una mayor probabilidad de emisión en el verde y con el color del plasma observado durante la ablación.

• Materias:Química Fisicoquímica Ciencias químicas
• Subjects:Chemistry Chemistry physical and theoretical Chemical sciences
• Palabras claves:Recubrimientos, Recubrimientos metálicos, Electroplateado, Electrodeposición, Cobreado, Deposición de láser pulsado, Ablación láser, Espectroscopía de emisión óptica, Películas delgadas
• Keywords:Coatings, Metal coatings, Electroplating, Electrodeposition, Copper, Pulsed laser deposition, Laser ablation, Optical emission spectroscopy, Thin films