Para cumplir con varios requisitos de aplicación, es importante permitir una mejora de la estructura y propiedades de a-C, como la dureza, la adherencia y la resistencia al desgaste. En este estudio, utilizamos la espectroscopía Raman para investigar la dependencia de la estructura de las películas delgadas de a-C en diferentes parámetros de deposición. Se analizó el efecto de la tasa de flujo de gas de nitrógeno, argón e hidrógeno para determinar la influencia en las propiedades de la película. El cambio en el tipo de gas, combinación y flujo tuvo una influencia significativa en las bandas D y G de los espectros Raman de a-C. La adición de N en la cámara promovió la creación de sp, mientras que al agregar hidrógeno, la capa contenía más enlaces sp. Las deposiciones de películas delgadas de a-C se llevaron a cabo en una instalación de vacío de descarga de arco pulsado. Se realizaron mediciones de micro-Raman de los materiales depositados utilizando un sistema confocal ISA Dilor-Jobin Yvon-Spex Labram con radiación de 632.8 nm de un láser de He-Ne utilizando una geometría de retrodispersión.
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