Resumen

Dependiendo de la intensidad y de la clasificación sucesional ecológica de las plantas, la disponibilidad de luz puede convertirse en una condición desfavorable para la producción de plántulas de alta calidad. Nuestra hipótesis era que la aplicación de fuentes de silicio podría contribuir a inducir la tolerancia de las plántulas de Peltophorum dubium (Spreng.) Taub. a diferentes niveles de sombreado. Se desarrollaron dos experimentos independientes: I) la aplicación de cinco dosis de óxido de silicio (SiO2: 0,0; 1,0; 2,0; 4,0; y 6,0 g L-1); y II) la aplicación de cinco dosis de silicato de potasio (K2SiO3: 0,0; 5,0; 10,0; 15,0; y 20,0 mL L-1 de agua). Ambos se asociaron a tres niveles de sombreado: 0% (luz solar directa), 30% y 50%. En el experimento I, observamos que las plántulas respondían mejor a los niveles de sombreado y tenían poca influencia de la aplicación foliar de SiO2, con mayores valores de crecimiento, biomasa y calidad cuando crecían bajo luz solar directa (sombreado 0%). En el experimento II, la aplicación foliar de 20,0 mL L-1 de K2SiO3 contribuyó a mayores alturas bajo 0% y 30% de sombreado. Mientras tanto, bajo 50% de sombreado, la dosis de 5,0 K2SiO3 favoreció el crecimiento de la especie. La aplicación de K2SiO3 favoreció el aumento de la masa seca de la parte aérea (DMAP). La mayor producción de biomasa y calidad de las plántulas se produjo bajo un sombreado del 0% y del 30%. El ambiente sombreado al 50% fue el más desfavorable para el crecimiento y la calidad de las plántulas de P. dubium. Aunque las plántulas no fueron muy sensibles a las fuentes de silicio, K2SiO3 proporcionó una mayor respuesta que SiO2. La producción de plántulas de alta calidad se ve favorecida cuando éstas se cultivan bajo luz solar directa (0% de sombreado).

• Materias:Acetamida
• Subjects:Acetamida
• Palabras claves:Óxido de silicio; Silicato de potasio; Disponibilidad de luz; Ajustes fisiológicos; Plasticidad fenotípica
• Keywords:Silicon oxide; Potassium silicate; Light availabilities; Physiological adjustments; Phenotypic plasticity