Resumen

El fenol soluble en agua y los compuestos fenólicos se eliminaron generalmente mediante procesos de oxidación avanzada. En el presente estudio se empleó por primera vez un novedoso catalizador semiconductor, CT, para degradar fenol y catecol. Los compuestos fenólicos (concentración inicial de 88 mg L-1) fueron completamente mineralizados por las nanopartículas catalíticas de CT (1%) en 15 días, bajo condiciones ácidas y con la presencia de radiación UV suave (15 w, la longitud de onda emitida es de 254 nm y la intensidad de la luz <26 μw/cm2). En las mismas condiciones de reacción, el TiO2 al 1% (mezcla de rutilo y anatasa, nanopolvo, <100 nm) y el H2O2 presentaron una menor eficacia de eliminación (fenol: <42%; catecol: <60%), mientras que el control (sin adición de catalizadores/H2O2) sólo mostró una eliminación <12%. Los procesos de eliminación de fenol/catecol por TC siguieron una cinética de pseudo-cero-orden. Las estructuras aromáticas absorbieron la energía UV y pasaron a un estado excitado, sobre el que actuó el TC. Los contaminantes se adsorbían en la superficie del TC y se oxidaban mediante transferencia de carga y generación de radicales hidroxilo por el TC. Dadas las bajas concentraciones iniciales, una circunstancia que se da en el pulido de aguas residuales, la configuración actual debería ser un método de tratamiento eficiente y que consuma menos energía y productos químicos.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanomateriales Nanosensores
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanomaterials Nanosensors
• Palabras claves:fenol, compuestos fenólicos, procesos avanzados de oxidación, método de tratamiento consuntivo, bajas concentraciones iniciales, menor eficacia de eliminación, radiación uv suave, catalizador semiconductor novedoso, misma condición de reacción, h2o2
• Keywords:phenol, phenolic compounds, advanced oxidation processes, consumptive treatment method, low initial concentrations, lower removal efficiency, mild uv radiation, novel semiconductor catalyst, same reaction condition, h2o2