Resumen

Se revisan los avances recientes en dispersometría óptica y magnetoóptica (MO) aplicada a nanoestructuras periódicamente ordenadas, como líneas, hilos, puntos o agujeros periódicamente modelados. Las técnicas se basan en la elipsometría espectroscópica (SE), ya sea en los modos básico o generalizado, la polarimetría matricial de Mueller y la espectroscopia de MO basada principalmente en medidas del efecto Kerr de MO. Presentamos brevemente montajes experimentales, enfoques teóricos comúnmente utilizados y resultados experimentales obtenidos mediante análisis espectroscópicos SE y MO de diversas muestras. Los análisis revisados están relacionados principalmente con el control de las dimensiones ópticas críticas, como las anchuras, las profundidades y los periodos de los elementos modelados, sus formas reales y la rugosidad de sus bordes o anchos de línea. También se discuten las ventajas y desventajas de las técnicas espectroscópicas ópticas en comparación con las técnicas de monitorización directa.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanoestructuras Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanostructures Nanomaterials
• Palabras claves:mediciones del efecto mo kerr, análisis espectroscópicos mo, polarimetría de matriz mueller, técnicas de seguimiento directo, dimensiones críticas ópticas, técnicas espectroscópicas ópticas, espectroscopia mo, resultados experimentales, montajes experimentales, modos generalizados
• Keywords:mo kerr effect measurements, mo spectroscopic analyses, mueller matrix polarimetry, direct monitoring techniques, optical critical dimensions, optical spectroscopic techniques, mo spectroscopy, experimental results, experimental setups, generalized modes