El SiC se ha convertido en el mejor material candidato para espejos espaciales y dispositivos ópticos debido a una serie de propiedades físicas y químicas favorables. Para una aplicación óptica fina es necesaria una calidad óptica superficial fina con una rugosidad superficial (RMS) inferior a 1 nm. Sin embargo, las cerámicas de SiC presentan varios defectos y es muy difícil pulir la matriz cerámica de SiC con una RMS de 1 nm. La modificación de la superficie de las cerámicas de SiC debe realizarse en el sustrato de SiC. Se han descrito y revisado aquí cuatro tipos de rutas de modificación superficial, incluyendo el vidrio prensado en caliente, el aplastamiento de C/SiC, el aplastamiento de SiC y el aplastamiento de Si en la superficie de SiC. Los métodos de modificación de la superficie, el mecanismo de preparación, y las desventajas y ventajas se centran en este artículo. En nuestra opinión, el PVD Si es la mejor opción para la modificación de la superficie del espejo de SiC.
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