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Recent Advances in Unconventional Lithography for Challenging 3D Hierarchical Structures and Their ApplicationsAvances recientes en litografía no convencional para estructuras jerárquicas tridimensionales complejas y sus aplicaciones

Resumen

En nanociencia y nanotecnología, la nanofabricación es fundamental. Entre los procesos necesarios para la nanofabricación, la litografía es una de las cuestiones fundamentales. Aunque la fotolitografía convencional, con notables mejoras recientes, ha contribuido a la industria durante las últimas décadas, la fabricación de nanoestructuras tridimensionales (3D) sigue siendo un reto. En esta revisión, resumimos los avances recientes para la construcción de nanoestructuras 3D mediante litografía no convencional y la combinación de dos enfoques descendentes o descendentes y ascendentes. Creemos que las nanoestructuras jerárquicas tridimensionales aquí descritas tendrán una amplia gama de aplicaciones con niveles adaptables de integración funcional de nanoarquitecturas controladas con precisión que requieren no sólo el mundo académico, sino también la industria.

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