Resumen

Se depositaron películas nanocompuestas de Ti-Al-C mediante arco catódico filtrado en vacío (FCVA) a diferentes caudales de CH4. Las películas depositadas se caracterizaron en términos de composición elemental y de fase, enlaces químicos y textura en función del caudal de CH4 mediante DRX, XPS, HRTEM, espectroscopia Raman y espectroscopia IR. Los resultados muestran que el tamaño de grano del TiC disminuye de 4,2 a 2,9 nm a medida que aumenta el caudal de CH4 de 30 a 80 sccm. El análisis de XPS, HRTEM y espectroscopia Raman muestra que la microestructura de las películas depositadas pasa de ser una película TiC-C dominante a una estructura de película TiAl-dopada a-C dominante de red de carbono a medida que el flujo de CH4 aumenta de 30 a 80 sccm. La espectroscopia IR muestra que la mayoría de los átomos de hidrógeno de las películas depositadas están enlazados a los átomos de C hibridizados sp3. Todos los cambios de composición y microestructura pueden explicarse considerando las condiciones del plasma y el efecto del flujo de CH4.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanomateriales Nanosensores
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanomaterials Nanosensors
• Palabras claves:películas, sccm, espectroscopia ir, espectroscopia raman, aumento del caudal de ch4, estructura de la película c, aumento del caudal de ch4, caudal de ch4, tamaño de grano tic, arco catódico en vacío
• Keywords:films, sccm, ir spectroscopy, raman spectroscopy, ch4 flow rate increases, c film structure, ch4 flow increases, ch4 flow rate, tic grain size, cathodic vacuum arc