Resumen

Se utilizaron nanopartículas de dióxido de titanio (TiO2) dopadas con niobio como fotoánodo en células solares sensibilizadas con colorantes (DSC). Dichas nanopartículas mostraron una elevada densidad de fotocorriente debido a su mayor conductividad; sin embargo, mostraron un bajo voltaje en circuito abierto debido a la reacción en retroceso de los electrones fotogenerados. La deposición de capas atómicas es una técnica útil para formar una capa ultrafina conformada de Al2O3 y HfO, que actúan como barrera de energía para impedir que los electrones retroactivos alcancen el medio redox. El resultado fue un aumento de la tensión de circuito abierto y, por tanto, un mayor rendimiento. El HfO mostró una mejora de la eficiencia de conversión de luz en corriente del 74%, superior a la mejora del 21% obtenida utilizando capas de Al2O3.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Biophotonics
• Palabras claves:tensión de circuito, deposición de capas atómicas, capa ultrafina conformada, eficacia de conversión de corriente, alta densidad de fotocorriente, hfo, capas de al2o3, electrones de retorno, barrera de energía, mayor conductividad
• Keywords:circuit voltage, atomic layer deposition, conformal ultrathin layer, current conversion efficiency, high photocurrent density, hfo, al2o3 layers, back electrons, energy barrier, higher conductivity