Resumen

El sulfuro de indio ha sido ampliamente investigado como componente para diferentes tipos de dispositivos fotovoltaicos (dispositivos híbridos orgánico-inorgánicos, totalmente inorgánicos, células sensibilizadas por colorantes). En este trabajo, hemos optimizado las condiciones de crecimiento de películas delgadas de sulfuro de indio mediante una técnica de deposición versátil y de bajo coste, como es la pirólisis por pulverización. La calidad de las películas depositadas se ha caracterizado mediante micro-Raman, espectroscopia vis-UV y microscopía de fuerza atómica. Se han investigado la temperatura de deposición del sustrato y diferentes condiciones de recocido postdeposición para obtener información sobre la calidad del compuesto obtenido (qué fases cristalinas o amorfas están presentes) y la morfología de las películas depositadas. Hemos demostrado que la temperatura de deposición influye fuertemente en la cantidad de fase amorfa y en la rugosidad de las películas de sulfuro de indio. La optimización de los tratamientos de recocido posteriores a la deposición puede mejorar notablemente la cantidad final de fase beta, casi independientemente del porcentaje de fase amorfa presente en las películas depositadas.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Biophotonics
• Palabras claves:películas, fase amorfa, diferentes condiciones de recocido postdeposición, temperatura de deposición del sustrato, microscopía de fuerza atómica, influencias de la temperatura de deposición, películas de sulfuro de indio, dispositivos híbridos inorgánicos, tratamientos de recocido postdeposición, técnica de deposición versátil
• Keywords:films, amorphous phase, different postdeposition annealing conditions, substrate deposition temperature, atomic force microscopy, deposition temperature influences, indium sulphide films, inorganic hybrid devices, postdeposition annealing treatments, versatile deposition technique