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Characteristics and Photocatalytic Properties of TiO2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion ImplantationCaracterísticas y propiedades fotocatalíticas de una película delgada de TiO2 preparada mediante deposición por pulverización catódica e implantación de iones post-N

Resumen

Se fabricaron películas delgadas de TiO2 de tipo rutilo, anatasa y una mezcla de anatasa y rutilo mediante un método de sputtering por magnetrón. Las películas fabricadas fueron irradiadas por iones N con varias dosis utilizando la fuente de iones Freeman. Se emplearon la microscopía de fuerza atómica (AFM), la difracción de rayos X (XRD), la espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS) y el espectrofotómetro UV-VIS para investigar la morfología, la estructura, el estado químico y las características ópticas, respectivamente. La actividad fotocatalítica se evaluó mediante la degradación de una solución de azul de metileno utilizando luz UV y visible. Las películas delgadas de TiO2 con cada estructura irradiada por iones N mostraron la diferente concentración de N en la misma dosis de iones N y el estado químico de los resultados de XPS sugirió que un átomo de O en la red de TiO2 fue reemplazado por un átomo de N. Por lo tanto, la actividad fotocatalítica de las películas delgadas de TiO2 mejoró bajo luz visible. La máxima actividad fotocatalítica de las películas delgadas de TiO2 con cada estructura se indicó con una concentración de N de 2,1 o de tipo rutilo, de 1,0 o de tipo anatasa, y de 3,8 o de tipo mezcla bajo la condición de 2,5×1015 iones/cm2 en la dosis de iones N.

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Información del documento

  • Titulo:Characteristics and Photocatalytic Properties of TiO2 Thin Film Prepared by Sputter Deposition and Post-N+ Ion Implantation
  • Autor:Haider A., Shukur; Mitsunobu, Sato; Isao, Nakamura; Ichiro, Takano
  • Tipo:Artículo
  • Año:2012
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi Publishing Corporation
  • Materias:Sistema cuántico Masa (Física) fotoelectrones Iones Reacciones Nucleares
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