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Characteristics of Silicon Dioxide Particles in PCVD Synthesizing Silica Glass ProcessCaracterísticas de las partículas de dióxido de silicio en el proceso PCVD de síntesis de vidrio de sílice

Resumen

Las nanopartículas de SiO2 en el proceso PCVD se investigaron mediante SEM, TEM y espectros de emisión óptica (OES). En el proceso PCVD hay partículas de SiO2 esféricas grandes con un diámetro de 50-200 nm y más partículas pequeñas de unos 10-50 nm. El tamaño de las partículas de SiO2 está influido por la distancia y la velocidad de alimentación, pero no por la temperatura del electrón. La cantidad de partículas esféricas grandes de SiO2 disminuye con el aumento de la distancia y la disminución de la velocidad de alimentación debido a la menor concentración. Además, la evolución de las partículas de SiO2 se dedujo de los resultados experimentales.

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