Biblioteca122.294 documentos en línea

Artículo

Characterization of Ag-Doped p-Type SnO Thin Films Prepared by DC Magnetron SputteringCaracterización de películas delgadas de SnO tipo p dopadas con Ag preparadas mediante pulverización catódica con magnetrón de corriente continua

Resumen

Se investigan la estructura cristalina y las propiedades optoeléctricas de láminas delgadas de monóxido de estaño dopado con plata con diferentes concentraciones de dopante preparadas mediante pulverización catódica por magnetrón DC. Los patrones de difracción de rayos X revelan que la fase tetragonal de SnO presenta orientaciones preferentes a lo largo de los planos (101) y (110). Nuestros resultados indican que la sustitución de Sn2 en la red de SnO por iones de Ag produce cristalitos de menor tamaño, lo que puede dar lugar a una mayor dispersión de portadores en los límites de grano. Esto provoca un deterioro en la movilidad de los portadores, a pesar de que la concentración de portadores mejora en dos órdenes de magnitud debido al dopado. Además, las películas delgadas de SnO dopadas con Ag muestran un comportamiento de semiconductor tipo p, con un hueco óptico directo y una transmitancia decreciente con el aumento de la concentración de dopante Ag.

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento