Resumen

Se fabricaron químicamente películas de heterounión de nanopolianilina/silicio poroso tipo P (NPANI/PSi) mediante polimerización in situ. La composición y morfología del nanopolímero se confirmaron mediante técnicas de infrarrojo por transformada de Fourier, microscopía electrónica de barrido, UV-visible y microscopía electrónica de transmisión. Los resultados indicaron que la polimerización tuvo lugar en toda la capa porosa. Las medidas I-V, realizadas a diferentes temperaturas, permitieron calcular el factor de idealidad, la altura de barrera y la resistencia en serie de dichas películas. El factor de idealidad obtenido mostró un comportamiento de diodo no ideal. Se observó que la resistencia en serie disminuía al aumentar la temperatura.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanoestructuras Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanostructures Nanomaterials
• Palabras claves:factor de idealidad, resistencia en serie, técnicas de microscopía electrónica de transmisión, comportamiento de diodos no ideales, mediciones v, altura de barrera, diferentes temperaturas, microscopía electrónica, películas de heterounión, capa porosa
• Keywords:ideality factor, series resistance, transmission electron microscopy techniques, nonideal diode behavior, v measurements, barrier height, different temperatures, electron microscopy, heterojunction films, porous layer