El silicio nanoporoso (NPs) fabricado mediante un proceso de grabado químico en ácido HF se separó primero en disolvente tetrahidrofurano (THF) y luego se incorporó a la matriz de SiO2. La matriz se preparó mediante un proceso de sol gel en el que se utilizó dimetilformamida (DMF) como aditivo de control químico de secado (DCCA) para formar una muestra seca sin grietas. Examinamos las propiedades ópticas de las nanopartículas en tres medios: disolvente, sol y gel de sol seco. Nuestras observaciones revelan que los espectros de absorción de las NPs de silicio en THF se modifican con respecto a los espectros en sol gel. Se observa una estabilidad significativa en el PL de las NPs silicio en el gel sol. También se discute la influencia del entorno de la matriz en los picos de las NPs. La morfología de la superficie se caracteriza mediante microscopía electrónica de barrido de emisión de campo (FESEM), que muestra que las NPs de silicio en THF son similares al sol gel pero se agregan partícula a partícula. La presencia de nanopartículas de Si en THF y sol se confirma mediante microscopía electrónica de transmisión (TEM). Las nanopartículas de silicio tienen una naturaleza monodispersiva y altamente cristalina con una forma esférica de unos 5 nm de tamaño.
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