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The Resistive Switching Behavior of Al/Chitosan-Graphene Oxide/FTO StructureComportamiento de conmutación resistiva de la estructura de óxido de grafeno/FTO de Al/Chitosan

Resumen

La memoria de acceso aleatorio resistiva (RRAM) se perfila como una nueva clase de memoria no volátil que ofrece propiedades electrónicas prometedoras y estructuras sencillas metal-aislante-metal (MIM) para capas sándwich, como materiales orgánicos, inorgánicos e híbridos. Las estructuras híbridas han despertado mucho interés últimamente por sus ventajosas propiedades. La combinación de quitosano (CS) y óxido de grafeno (GO) actúa como capas de conmutación en la estructura RRAM Al/CS-GO/FTO que se estudia con un comportamiento de conmutación bipolar a aproximadamente 102 relaciones ON/OFF durante 100 ciclos. Esta interacción híbrida se identifica mediante desplazamientos en las bandas D, G y 2D utilizando espectroscopia Raman. Se propone que el mecanismo de conducción es un mecanismo de conducción con carga espacial limitada (SCLC) y un mecanismo de conducción por túnel asistido por trampa en los estados ON y OFF, respectivamente. Los electrones atrapados y desatrapados se mueven a través de los sitios trampa con campos eléctricos externos, y este movimiento es responsable del mecanismo de conmutación del dispositivo de memoria nanocompuesto CS-GO.

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