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Topographical and Physicochemical Contrast in Photopatterned SU-8 Films for Microfabrication of Multilayer StructuresContraste topográfico y fisicoquímico en películas de SU-8 fotopatronadas para la microfabricación de estructuras multicapa

Resumen

Durante el proceso de fotolitografía estándar de SU-8, se forma una topografía con un perfil de altura característico producido por la diferente contracción de las regiones expuestas a la radiación UV y las enmascaradas. Estudiamos el cambio de la humectabilidad, la solubilidad de la película y las modificaciones topográficas en películas de SU-8 de diferentes espesores y mostramos su relevancia en la formación de matrices de hilatura-flujo en capas superiores hechas de fotorresistencias positivas. Asimismo, se produce un contraste considerable en la solubilidad de la película y en la energía superficial, tal y como se observa en las mediciones del ángulo de contacto. También se ha observado la difusión en la interfase de las fotorresistencias y se ha seguido mediante Rutherford Back Scattering. Se discuten las derivaciones de los efectos mencionados en relación con las limitaciones de los procesos de microfabricación multicapa y las posibilidades de aprovechar los perfiles superficiales obtenidos.

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  • Idioma:Inglés
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Información del documento

  • Titulo:Topographical and Physicochemical Contrast in Photopatterned SU-8 Films for Microfabrication of Multilayer Structures
  • Autor:L. Salazar, Alarcón; E. D., Martínez; L. M., Rodríguez; H., Pastoriza
  • Tipo:Artículo
  • Año:2016
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi Publishing Corporation
  • Materias:Energía nuclear Dinámica molecular Metales Electrodos Acero Acero inoxidable
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