El objetivo de este estudio es examinar el reto tecnológico que supone la formación electroquímica de películas de óxido de zinc y ZnO dopado con Al (ZnO:Al, AZO) como recubrimientos transparentes de óxido conductor con arquitecturas complejas para materiales de fotoánodos de células solares. Se realizó una electrodeposición catódica de AZO utilizando electrolitos acuosos de nitrato a 25°C. Mediante los métodos LAES, EDX y XPS se demostró una desviación positiva significativa en el porcentaje de aluminio en las películas, que tiene su origen en la sedimentación de hidróxido de aluminio. Las características fotoluminiscentes de las películas de ZnO revelan intensidades de banda bajas relacionadas con defectos intrínsecos, mientras que las muestras con 1 at.% de aluminio muestran una banda PL fuerte y ancha a 600±80 nm y un aumento de la conductividad.
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