Resumen

Las nuevas películas tampón de Inconel se prepararon sobre láminas de cobre mediante pulverización catódica por magnetrón con corriente continua desequilibrada. Estas películas se emplearon como capas tampón para soportar el crecimiento denso de nanotubos de carbono multipared (MWCNT). Para sintetizar los MWCNT se recurrió a la deposición química térmica de vapor (CVD) con aleaciones metálicas como las películas de acero inoxidable (SS) tipo 304. Para conocer la eficacia de estas películas tampón, se compararon los MWCNT cultivados sobre una capa sin tampón. El principal problema, como era la difusión de catalizadores en la capa de óxido del sustrato metálico durante el proceso de CVD, se resolvió junto con la creación de un buen contacto eléctrico entre el sustrato y los nanotubos. Las morfologías, cristalinidades y comportamientos electroquímicos de los MWCNT crecidos sobre películas tampón de Inconel con catalizadores de acero inoxidable 304 revelaron los mejores resultados para su aplicación en aplicaciones electroquímicas flexibles.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos Nanomateriales
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes Nanomaterials
• Palabras claves:mwcnts, deposición química térmica de vapor, nuevas películas tampón de inconel, películas tampón de inconel, aplicaciones electroquímicas flexibles, buen contacto eléctrico, películas, proceso cvd, catalizadores ss, mejores resultados
• Keywords:mwcnts, thermal chemical vapor deposition, novel inconel buffer films, inconel buffer films, flexible electrochemical applications, good electrical contact, films, cvd process, ss catalysts, better results