Resumen

Las nanopartículas de plata (Ag) son de gran interés para muchas aplicaciones. Sin embargo, su fabricación se ha visto limitada por los métodos de síntesis, en los que el tamaño, la forma y la agregación siguen siendo difíciles de controlar. En este trabajo se describe el uso del sputtering por magnetrón de corriente continua (CC) para el cultivo de nanopartículas de Ag en sustratos no calentados. Se analizaron los efectos de las condiciones de sputtering sobre el tamaño de grano de las nanopartículas de Ag. Con una corriente de pulverización catódica y un tiempo de deposición constantes, los tamaños medios de las nanopartículas de Ag fueron de 5,9 ± 1,8, 5,4 ± 1,3 y 3,8 ± 0,7 nm para las distancias blanco-sustrato de 10, 15 y 20 cm, respectivamente. También se observó la evolución de la morfología de nanopartículas a redes en forma de gusano. La imagen de microscopía electrónica de transmisión de alta resolución representaba claras franjas reticulares de nanopartículas de Ag con un espaciado d de 0,203 nm, correspondiente al plano (200). La técnica podría aplicarse para el crecimiento de nanopartículas cuyo tamaño y uniformidad eran antes difíciles de controlar.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanotubos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanotubes
• Palabras claves:nanopartículas de ag, nanopartículas, imagen de microscopía electrónica de transmisión de resolución, franjas de red claras, tamaño, nanopartícula de ag, tamaños medios, tiempo de deposición, tamaño de grano, gran interés
• Keywords:ag nanoparticles, nanoparticles, resolution transmission electron microscopy image, clear lattice fringes, size, ag nanoparticle, average sizes, deposition time, grain size, great interest