Resumen

Las recientes investigaciones sobre la deposición química en fase vapor (CVD) por plasma para el crecimiento de nanotubos de carbono de pared simple (SWNT) han logrado la síntesis a baja temperatura, la formación individual independiente y el control estructural del diámetro, la quiralidad y la longitud. La cinética detallada de crecimiento de los SWNT se revela mediante una combinación de técnicas de control del plasma y análisis de nanomateriales. El CVD por plasma también permite controlar la metalicidad de los tubos ajustando el diámetro medio de los SWNT. Estos avances en CVD por plasma contribuyen a la siguiente etapa de la fabricación de nanotubos, necesaria para el uso práctico de los SWNT en diversas aplicaciones.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanocompuestos Nanotubos
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanocomposites Nanotubes
• Palabras claves:swnts, deposición química de vapor por plasma, cinética de crecimiento detallada, avances en cvd por plasma, nanotubo de carbono amurallado, cvd por plasma, investigación reciente, diámetro medio, análisis de nanomateriales, fabricación de nanotubos
• Keywords:swnts, plasma chemical vapor deposition, detailed growth kinetics, plasma cvd progress, walled carbon nanotube, plasma cvd, recent research, mean diameter, nanomaterial analysis, nanotube fabrication