Resumen

El uso de películas fotocatalíticas presenta ciertas ventajas sobre el uso de fotocatalizadores en polvo para el desarrollo de nuevas y mejores técnicas de aplicación práctica. Aunque se han hecho esfuerzos continuos por mejorar la calidad de películas de óxido de zinc (ZnO) para diversos usos, es necesario explorar técnicas de depósito novedosas y relacionar las condiciones de trabajo con las características de las películas y su actividad fotocatalítica.

Esta investigación es un estudio sistemático sobre el crecimiento de películas delgadas de ZnO utilizando el método de pulverización catódica (sputtering) en atmósfera de argón. Las películas se prepararon a partir de blancos de ZnO sobre sustratos de vidrio. Las condiciones de depósito exploradas se encuentran en el intervalo de potencia (100-300 W), la temperatura del sustrato (23-500 °C), el flujo de gas de proceso (15-35 SCCM) y el tiempo de depósito (5-60 min). Empleando las técnicas de caracterización de difracción de rayos X (DRX) y microscopía electrónica de transmisión (MET), se determinaron las características estructurales y el tamaño de partícula. La morfología se observó utilizando microscopía electrónica de barrido (MEB) y microscopía de fuerza atómica (MFA).

• Materias:Fotocatálisis Fisicoquímica Química Fotoquímica
• Subjects:Photocatalysis Chemistry physical and theoretical Chemistry Photochemistry
• Palabras claves:Fotocatalizadores, Películas fotocatalíticas, Óxido de zinc, Pulverización catódica, Caracterización, Propiedades ópticas, Banda prohibida, Actividad fotocatalítica
• Keywords:Fotocatalizadores, Películas fotocatalíticas, Óxido de zinc, Pulverización catódica, Caracterización, Propiedades ópticas, Banda prohibida, Actividad fotocatalítica