Resumen

La película fina de TiO2 fotocatalíticamente activa se depositó sobre la placa de sustrato de titanio por el método de deposición química de vapor (CVD), y se investigó la degradación fotoelectrocatalítica del oxalato sódico mediante el reactor de película fina de TiO2 preparado en este estudio con potencial eléctrico adicional a 365 nm de irradiación. En este experimento se eligió el sistema por lotes, y los parámetros controlados fueron el pH, los diferentes electrolitos de soporte, el potencial adicional aplicado y las diferentes soluciones electrolíticas que se examinaron y discutieron. Los resultados experimentales revelaron que el potencial adicional aplicado en la reacción fotocatalítica podía prohibir la recombinación de pares electrón/hueco, pero el efecto fotoelectrocatalítico disminuía cuando el potencial eléctrico aplicado era superior a 0,25 V. Entre las soluciones electrolíticas añadidas, el sulfato sódico mejoró el efecto fotoelectrocatalítico de forma más significativa. Por último, la mejor degradación fotoelectrocatalítica del oxalato sódico se produjo a pH 3 al comparar la influencia del pH.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Biophotonics
• Palabras claves:oxalato de sodio, potencial eléctrico adicional, deposición química de vapor, diferentes soluciones electrolíticas, reactor de película fina, placa de sustrato de titanio, degradación, efecto, tio2 activo, potencial adicional
• Keywords:sodium oxalate, additional electric potential, chemical vapor deposition, different electrolyte solutions, thin film reactor, titanium substrate plate, degradation, effect, active tio2, additional potential