Resumen

La deposición de partículas de sílice coloidal durante la evaporación de gotas sésiles sobre un sustrato liso se ha modelado mediante la solución simultánea de las ecuaciones de Navier-Stokes, la ecuación convectivo-difusiva para partículas y la ecuación de difusión para vapor evaporado en fase gaseosa. Se han supuesto condiciones isotérmicas. Se creó un mapa para mostrar las condiciones de varios patrones de deposición para suspensiones muy diluidas. A partir de los valores del número de Peclet (Pe) y los números de Damkholer (Da y Da-1), se analizaron los efectos de la adsorción y la desorción según el mapa. También se realizaron simulaciones para suspensiones con una alta concentración de partículas para formar una fase sólida durante la evaporación utilizando un criterio de empaquetamiento. Las simulaciones predijeron la altura y la anchura del depósito anular cerca de la línea de contacto, y los resultados se compararon favorablemente con los patrones experimentales de deposición de partículas.

• Materias:Catálisis Hidrodinámica Dinámica de fluidos Residuos quí­micos Adsorción
• Subjects:Catalysis Hydrodynamics Fluid dynamics Chemical waste Adsorption
• Palabras claves:Patrones experimentales de deposición de partículas, partículas de sílice coloidal, alta concentración de partículas, diversos patrones de deposición, evaporación, números de Damkholer, condiciones isotérmicas, ecuaciones de Stokes, línea de contacto, ecuación de difusión.
• Keywords:experimental particle deposition patterns, colloidal silica particles, high particle concentration, various deposition patterns, evaporation, Damkholer numbers, Isothermal conditions, Stokes equations, contact line, diffusion equation