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Facile Deposition of Ultrafine Silver Particles on Silicon Surface Not Submerged in Precursor Solutions for Applications in Antireflective LayerDeposición fácil de partículas ultrafinas de plata sobre superficie de silicio no sumergida en soluciones precursoras para aplicaciones en capa antirreflectante

Resumen

Utilizando un método de deposición fácil, las partículas ultrafinas de plata se depositan con éxito sobre la superficie de Si que no está sumergida en soluciones precursoras. Las partículas de plata ultrafinas presentan muchas ventajas, como la forma cuasi redonda, la uniformidad de tamaño, la distribución monodispersa y la reducción de la aglomeración. También se investiga el procedimiento físico interno en la deposición. Los resultados muestran que hay más partículas en la superficie rugosa de Si debido al efecto humectante de la interfaz sólido-líquido. La mayor concentración de disolvente etanol puede inducir el aumento de la cantidad y el tamaño de las partículas en la superficie de Si no en las soluciones. Las partículas ultrafinas pueden utilizarse para preparar una capa antirreflectante de Si poroso en aplicaciones de células solares.

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Información del documento

  • Titulo:Facile Deposition of Ultrafine Silver Particles on Silicon Surface Not Submerged in Precursor Solutions for Applications in Antireflective Layer
  • Autor:Bing, Jiang; Meicheng, Li; Dandan, Song; Yingfeng, Li; Trevor, Mwenya
  • Tipo:Artículo
  • Año:2014
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi Publishing Corporation
  • Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanomateriales Nanosensores
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