Resumen

En este trabajo, se ha depositado una película delgada de molibdeno (Mo) puro sobre un sustrato de Si en blanco mediante la técnica de sputtering por magnetrón DC. Las condiciones de deposición para todas las muestras no se han cambiado excepto el tiempo de deposición con el fin de estudiar la influencia del tiempo en el espesor y la morfología superficial de la película delgada de molibdeno. Se ha utilizado el perfilómetro de superficie para medir el espesor superficial. Se empleó la técnica de microscopía de fuerza atómica para investigar la rugosidad y la estructura de grano de la película delgada de Mo. Se ha observado que el espesor y el grano de la capa de película fina de molibdeno aumentan con el tiempo, mientras que la rugosidad superficial disminuye. Los parámetros de rugosidad media, rugosidad cuadrática media, asimetría superficial y curtosis superficial se utilizan para analizar la morfología superficial de la película delgada de Mo. Se ha observado una superficie lisa. A partir del análisis del grano, se ha encontrado una distribución uniforme del grano a lo largo de la superficie. Los resultados obtenidos nos han permitido decidir el momento óptimo para depositar la capa de película delgada de molibdeno de 20-100 nm de espesor y posteriormente modelarla como electrodos (fuente/drenaje) en el transistor de canal de nanotubos de carbono.

• Materias:Biotecnología Nanotecnología Fotocatálisis Nanopartículas
• Subjects:Biotechnology Nanotechnology Photocatalysis Nanoparticles
• Palabras claves:película fina, capa de película fina, molibdeno, morfología superficial, técnica de microscopía de fuerza atómica, sustrato de si en blanco, parámetros de curtosis superficial, distribución uniforme del grano, espesor, tiempo
• Keywords:thin film, thin film layer, molybdenum, surface morphology, atomic force microscopy technique, blank si substrate, surface kurtosis parameters, uniform grain distribution, thickness, time