Resumen

Las películas delgadas de sulfuro de cobre policristalino (CuS) se cultivaron mediante el método de pirólisis por pulverización ultrasónica utilizando soluciones acuosas de cloruro de cobre y tiourea sin ningún agente complejante a diferentes temperaturas de sustrato de 240, 280 y 320°C. Las películas se caracterizaron por sus propiedades estructurales, ópticas y eléctricas mediante difracción de rayos X (XRD), microscopía electrónica de barrido (SEM), análisis de dispersión de energía de rayos X (EDAX), microscopía de fuerza atómica (AFM), ángulo de contacto (CA), absorción óptica y mediciones de corriente-voltaje (). El análisis de XRD mostró que las películas tenían una naturaleza policristalina de fase única o mixta con una estructura de covellita hexagonal y digenita cúbica. La fase cristalina de las películas cambió dependiendo de la temperatura del sustrato. Las brechas ópticas () de las películ

• Materias:Electrodos Nanocompuestos Nanomanipulación
• Subjects:Electrodes Nanocomposites Nanomanipulation
• Palabras claves:Sulfuro de cobre; Películas delgadas; Temperaturas del sustrato; Difracción de rayos X; Huecos de banda óptica; Conductividad tipo p
• Keywords:Copper sulphide; Thin films; Substrate temperatures; X-ray diffraction; Optical band gaps; P-type conductivity