Proponemos un MOSFET SOI de operación a alta temperatura (HTOT) y mostramos resultados preliminares de simulación de sus características. Se demuestra que el MOSFET SOI HTOT opera de manera segura a 700K sin inestabilidad térmica debido a su brecha de banda efectiva expandida. Se muestra que su voltaje de umbral es mayor que el del MOSFET SOI convencional debido a que sus regiones de Si local delgadas ofrecen una brecha de banda efectiva expandida. Se muestra que el MOSFET SOI HTOT con regiones de Si local delgadas de 1 nm es casi insensible a la temperatura a 427°C. Esto confirma que el MOSFET SOI HTOT es un dispositivo prometedor para futuras aplicaciones a alta temperatura.
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