Resumen

Este documento describe brevemente, a manera de introducción, las características y usos principales de los recubrimientos superficiales que se elaboran por la técnica PAPVD (Plasma Asisted Physical Vapour Deposition). Asimismo, describe la función del sistema de automatizado, el cual tiene como finalidad controlar variables del proceso de deposición de películas delgadas, tales como presión, voltaje bias, flujo de gases, velocidad del movimiento de rotación del porta muestra y temperatura.

Se explica la manipulación de las variables mencionadas anteriormente mediante la interfase LabVIEW para controlar la deposición de los metales de recubrimiento dentro del reactor, realizando el ajuste adecuado de las variables mediante la utilización de lógica y control difuso, los cuales permitieron mantener un ajuste dentro del valor de cada variable por debajo del 4% de su valor real.

En conclusión, este mecanismo de automatización permite reducir el tiempo de producción, estandariza el proceso de deposición y se da una supervisión constante de estas variables; además, es una herramienta que permite que el control del reactor también se pueda realizar vía control remoto mediante la utilización de Internet.

• Materias:Equipo de control automático Reactores químicos Procesos industriales
• Subjects:Automatic control equipment Chemical reactors Industrial processes
• Palabras claves:Reactor monoevaporador, Instrumentación, Flujo de gases, Velocidad del movimiento de rotación, Deposición de los metales
• Keywords:Monoevaporator reactor, Instrumentation, Gas flow velocity of the rotation movement, The deposition of metals