Resumen

Se sabe que la deposición química de vapor (CVD) produce láminas de grafeno continuas y de gran superficie con propiedades físicas decentes. En el proceso de CVD, se suelen utilizar sustratos metálicos catalíticos como plantilla de crecimiento, y el cobre se ha adoptado como plataforma material representativa debido a su baja solubilidad en carbono y a la capacidad de crecimiento de grafeno en monocapa resultante. Para generalizar las aplicaciones industriales del grafeno, es esencial conseguir una alta calidad. Varios factores afectan a la calidad del grafeno obtenido por CVD, como la presión, la temperatura, los precursores de carbono o la plantilla de crecimiento. En este trabajo, analizamos en detalle la relación directa entre el sustrato de crecimiento metálico (cobre) y las propiedades generales del grafeno obtenido por CVD. La morfología superficial del sustrato de cobre se moduló mediante tratamientos químicos sencillos, y se analizó su efecto sobre las propiedades físicas, ópticas y eléctricas del grafeno. Basándonos en estos resultados, proponemos una ruta de síntesis sencilla para producir láminas de grafeno monocapa, continuas y de alta calidad, que puede facilitar la comercialización del grafeno CVD en la realidad.

• Materias:Análisis electroquímico Nanotecnología Nanopartículas Nanocompuestos Nanofibras
• Subjects:Electrochemical analysis Nanotechnology Nanoparticles Nanocomposites Nanofibers
• Palabras claves:grafeno, cvd, plantilla de crecimiento, capacidad de crecimiento de grafeno monocapa, deposición química de vapor, lámina de grafeno de área, sustratos metálicos catalíticos, propiedades físicas decentes, baja solubilidad del carbono, sustrato metálico de crecimiento
• Keywords:graphene, cvd, growth template, monolayer graphene growth capability, chemical vapor deposition, area graphene sheet, catalytic metal substrates, decent physical properties, low carbon solubility, metallic growth substrate