Los dispositivos/estructuras plasmónicas a nanoescala han atraído cada vez más la atención de los investigadores debido a sus prometedoras funciones y/o aplicaciones. Un aspecto técnico importante de esta tecnología de dispositivos ópticos en rápido crecimiento es cómo controlar y fabricar con precisión nanoestructuras para diferentes funciones o aplicaciones (es decir, los puntos finales del patrón deben situarse en la interfaz o cerca de ella durante la fabricación de estas nanoestructuras plasmónicas), lo que requiere una metodología sistemática para el mecanizado, el patrón y la fabricación a nanoescala cuando se utiliza la versátil herramienta de nanoprecisión haz de iones focalizado (FIB), es decir, la detección de la interfaz asistida por FIB para fabricar nanoestructuras plasmónicas funcionales. En consecuencia, en este trabajo se propuso la detección de la interfaz asistida por FIB y se llevó a cabo con éxito utilizando la corriente absorbida por la muestra como señal de detección, y se logró el control en tiempo real de la profundidad del patrón para la fabricación de estructuras plasmónicas mediante el control del tiempo de mecanizado. Además, se establecieron modelos cuantitativos para las corrientes absorbidas por la muestra y la corriente del haz de iones. Además, se desarrollaron algunas nanoestructuras para aplicaciones de biosensores de resonancia plasmónica superficial localizada basadas en la metodología de detección de interfaz propuesta para la nanofabricación FIB de nanoestructuras plasmónicas funcionales. Se demostró que la metodología alcanzada puede utilizarse convenientemente para el control en tiempo real y la fabricación precisa de diferentes nanoestructuras plasmónicas funcionales con diferentes geometrías y dimensiones.
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