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Artículo

Gas Nozzle Effect on the Deposition of Polysilicon by Monosilane Siemens ReactorEfecto de la boquilla de gas en el depósito de polisilicio mediante el reactor Siemens de monosilano

Resumen

Se intentó aumentar la productividad de la deposición de polisilicio (poli-Si) utilizando dos tipos diferentes de boquillas de gas en un reactor monosilano Bell-jar Siemens (MS-Siemens). En una producción masiva de poli-Si, la tasa de deposición y el consumo de energía son factores muy importantes porque son los principales indicadores de rendimiento del reactor Siemens y están directamente relacionados con el coste de producción de poli-Si. Se utilizaron boquillas de tipo A y B para investigar el efecto de las boquillas de gas en la deposición de poli-Si en un reactor MS-Siemens. El diseño de las toberas se analizó mediante dinámica computacional cluida (CFD). La tasa de deposición y el consumo de energía de poli-Si aumentaron cuando se utilizó la tobera de tipo B. La tasa de deposición más alta fue la de 1 mm de poli-Si. La tasa de deposición más alta fue de 1 mm/h, y el consumo energético más bajo fue de 72 kWh-kg-1 en este estudio.

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Información del documento

  • Titulo:Gas Nozzle Effect on the Deposition of Polysilicon by Monosilane Siemens Reactor
  • Autor:Seung Oh, Kang; Uk June, Lee; Seung Hyun, Kim; Ho Jung, You; Kun, Park; Sung Eun, Park; Jong Hoon, Park
  • Tipo:Artículo
  • Año:2012
  • Idioma:Inglés
  • Editor:Hindawi Publishing Corporation
  • Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Biofotónica
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