Se depositaron películas delgadas de óxido de níquel (NiO) sin dopar sobre sustratos de vidrio calentados a 500°C utilizando el método de pirólisis por pulverización en el intervalo (0,015-0,1 M) de precursor. Este último se obtuvo por descomposición de hexahidrato de nitrato de níquel en agua bidestilada. Se investigó el efecto de la concentración de precursor sobre las propiedades estructurales, ópticas y eléctricas de las películas delgadas de NiO. La difracción de rayos X (DRX) muestra la formación de NiO bajo estructura cúbica con un único pico de difracción a lo largo del plano (111) a 2θ=37,24°. Cuando la concentración de precursor alcanza 0,1 M, se obtiene un aumento del tamaño de los cristalitos de NiO por encima de 37,04 nm, lo que indica la nanoestructura del producto. Las imágenes SEM revelan que más allá de 0,04 M como concentración de precursor, el sustrato se cubre completamente de NiO y las películas delgadas muestran la formación de nanoaglomeraciones en la parte superior de la superficie de la muestra. Los modos de vibración de los enlaces Ni-O en el producto de las películas se confirmaron mediante análisis FT-IR. La transparencia de las películas oscilaba entre el 57 y el 88
La energía de banda prohibida de las películas disminuye de 3,68 a 3,60 eV al aumentar la concentración de precursor. Las propiedades eléctricas de las películas delgadas de NiO elaboradas se correlacionaron con la concentración de precursor.
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