Resumen

Se prepararon películas de carbono fluorado tipo diamante (F-DLC) mediante la técnica de deposición química en fase vapor potenciada por plasma de radiofrecuencia con CF4 y CH4 como gases fuente en diferentes condiciones de deposición. La estructura de enlace químico y la composición de las películas se detectaron mediante caracterización Raman, espectrometría de absorción infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) y espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS). La micromorfología y la rugosidad superficial de la película se observaron y analizaron mediante microscopía de fuerza atómica (AFM). Los resultados indicaron que todas las películas preparadas presentaban una estructura de carbono tipo diamante. El contenido relativo de flúor en las películas aumentó, conteniendo más grupos CF2. La proporción de estructura híbrida sp3/sp2 disminuyó. La rugosidad superficial de las películas aumentó al aumentar la relación de flujo de gas R (R = CF4/[CH4 CF4]) o la potencia de deposición. El ángulo de contacto del agua con la superficie de la película F-DLC se midió con un instrumento estático de medición del ángulo de contacto gota/tensión superficial. Se observó que la propiedad hidrófoba de las películas de F-DLC dependía de la estructura sp2, el contenido de flúor y la rugosidad de la superficie de las películas. El ángulo de contacto aumentó al aumentar el contenido relativo de flúor en las películas y el contenido de sp2, mientras que el ángulo de contacto aumentó primero y disminuyó después con la rugosidad de la superficie.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Nanoestructuras Nanomateriales
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Nanostructures Nanomaterials
• Palabras claves:películas, ángulo de contacto, rugosidad superficial, contenido relativo, técnica de deposición química de vapor, relación de flujo de gas r, microscopía de fuerza atómica, estructura de enlace químico, diferentes condiciones de deposición, estructura híbrida sp3
• Keywords:films, contact angle, surface roughness, relative content, chemical vapor deposition technique, gas flow ratio r, atomic force microscopy, chemical bonding structure, different deposition conditions, hybrid structure sp3