El gran interés que despierta el grafeno ha motivado un gran esfuerzo en la producción escalable de material de alta calidad. El potencial de la deposición química de vapor sobre lámina de Cu para producir dicho grafeno se ve obstaculizado por la falta de comprensión de la relación entre las propiedades del catalizador y el rendimiento del grafeno. Aquí presentamos un análisis sistemático de la morfología del catalizador y su efecto en las propiedades eléctricas del grafeno. Comprobamos que las partículas de tamaño nanométrico aumentan la densidad de las regiones de bicapa, pero no tienen un efecto significativo sobre el transporte de portadores. Por otro lado, la rugosidad de longitud de onda larga (ondulación) genera regiones de grafeno defectuosas que deterioran la movilidad de los portadores. Estos hallazgos arrojan luz sobre el proceso de formación de grafeno en sustratos de Cu y abren una vía para mejorar la calidad del grafeno para aplicaciones electrónicas.
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