Biblioteca122.294 documentos en línea

Artículo

Substrate Temperature Effect on the Microstructure and Properties of (Si, Al)/a-C:H Films Prepared through Magnetron Sputtering DepositionEfecto de la temperatura del sustrato sobre la microestructura y las propiedades de las películas (Si, Al)/a-C:H preparadas mediante deposición por pulverización con magnetrón

Resumen

Se depositaron películas de carbono amorfo hidrogenado codopadas con Si y Al ((Si, Al)/a-C:H) mediante pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia (RF, 13,56 MHz) sobre sustrato de Si (100) a diferentes temperaturas. La composición y estructura de las películas se investigaron mediante espectroscopia fotoelectrónica de rayos X (XPS), TEM y espectros Raman, respectivamente. Se estudió el efecto de la temperatura del sustrato sobre la microestructura y las propiedades mecánicas y tribológicas de las películas. Se observó una transición estructural de las películas desde el contenido en nanopartículas al tipo fullereno. En consecuencia, las propiedades mecánicas de las películas también experimentaron una transición evidente. Los resultados tribológicos en aire ambiente mostraron que la alta temperatura del sustrato (>573 K) era una desventaja para la resistencia al desgaste de las películas, aunque favorecía la formación de grupos de carbono ordenados. En particular, la película depositada a una temperatura de 423 K presentaba un coeficiente de fricción ultrabajo de aproximadamente 0,01 y una elevada resistencia al desgaste.

  • Tipo de documento:
  • Formato:pdf
  • Idioma:Inglés
  • Tamaño: Kb

Cómo citar el documento

Esta es una versión de prueba de citación de documentos de la Biblioteca Virtual Pro. Puede contener errores. Lo invitamos a consultar los manuales de citación de las respectivas fuentes.

Este contenido no est� disponible para su tipo de suscripci�n

Información del documento