Resumen

El objetivo de este estudio es analizar la resistencia de la lámina de películas conductoras transparentes ultrafinas de óxido de indio y estaño (ITO) durante el tratamiento posterior al recocido. El espesor de las películas ultrafinas de ITO es de 20 nm. Se preparan sobre sustratos de vidrio B270 a temperatura ambiente mediante un sistema de pulverización catódica por magnetrón pulsado de corriente continua. Las películas ultrafinas de ITO con alta resistencia de lámina se utilizan habitualmente para aplicaciones de paneles táctiles. Al aumentar la temperatura de recocido, la estructura de la película ultrafina de ITO cambia de amorfa a policristalina. La cristalinidad de las películas ultrafinas de ITO se hace más fuerte con el aumento de la temperatura de recocido, lo que conduce además al efecto de mejora de la movilidad Hall. Un tratamiento posterior al recocido en una atmósfera puede mejorar la transmitancia óptica debido al relleno de vacantes de oxígeno, pero la resistencia de la lámina aumenta bruscamente. Sin embargo, una temperatura de recocido más alta, por encima de 250°C, provoca una disminución de la resistencia de lámina de las películas ultrafinas de ITO, porque más iones de Sn se convierten en un dopante efectivo. Se obtuvo una resistencia de lámina óptima de 336 Ω/sqr para películas ITO ultrafinas a 400°C con una transmitancia óptica media de 86,8 para aplicaciones de sensores táctiles.

• Materias:Biotecnología Análisis electroquímico Nanotecnología Bioingeniería Nanoestructuras Nanocompuestos
• Subjects:Biotechnology Electrochemical analysis Nanotechnology Bioengineering Nanostructures Nanocomposites
• Palabras claves:películas ultrafinas de ito, resistencia de la lámina, tratamiento posterior al recocido, cambios en las películas ultrafinas de ito, óxido de indio y estaño ultrafino, sustratos de vidrio b270, películas ultrafinas de ito, transmitancia óptica media, movilidad Hall mejorada, alta resistencia de la lámina
• Keywords:ultrathin ito films, sheet resistance, postannealing treatment, ultrathin ito film changes, ultrathin indium tin oxide, b270 glass substrates, ultrathin ito films, average optical transmittance, enhanced hall mobility, high sheet resistance