En este estudio, se depositaron películas delgadas de AZO sobre vidrio utilizando un blanco cerámico de 98 mol% ZnO 1 mol
l2O3 (AZO, Zn : Al = 98 : 2) y un sistema de sputtering por magnetrón r.f.. En primer lugar, se investigaron los efectos de diferentes tasas de flujo de H2 (H2/(H2 Ar) = 0%~9,09%, abreviado como películas delgadas AZO depositadas con H2, la temperatura de deposición fue de 200°C) añadidas durante el proceso de deposición sobre las propiedades físicas y eléctricas de las películas delgadas AZO. La transmitancia óptica a 400 nm~700 nm es superior a 80 en todas las películas delgadas AZO, independientemente del caudal de H2, y la relación de transparencia disminuye a medida que aumenta el caudal de H2. El efecto de desplazamiento de Burstein-Moss se utilizó para demostrar que los defectos de las películas delgadas de AZO disminuían al aumentar el caudal de H2. Además, las películas delgadas AZO depositadas al 2% de H2 también fueron tratadas por plasma de H2 a temperatura ambiente durante 60 minutos (películas delgadas AZO tratadas con plasma). Las variaciones en los valores de la separación de banda óptica ( E g ) de las películas delgadas de AZO depositadas con H2 y tratadas con plasma se evaluaron a partir de los gráficos de α h ν 2 = c ( h ν - E g ) , y los valores de E g aumentaron con el aumento del caudal de H2. Los valores de E g también aumentaron a medida que se utilizó el proceso H2-plasma para tratar sobre las películas delgadas de Al2O3-dopado con ZnO (AZO) depositadas con H2.
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