Resumen

En este estudio se empleó un proceso de membrana de ultrafiltración (UF) para tratar el efluente secundario vertido por la fabricación de transistores de película fina y pantallas de cristal líquido (TFT-LCD). Se realizó un sistema a escala de banco para evaluar la eliminación de incrustaciones de una membrana de UF con nanopartículas de dióxido de titanio (TiO2) recubiertas bajo irradiación UV. La presión de funcionamiento y la temperatura de alimentación se controlaron a 300 KN/m2 y 25°C, respectivamente. Se comprobó que las condiciones óptimas de funcionamiento se alcanzaban con concentraciones de TiO2 de 10 wtor tanto de 5 KD como de 10 KD MWCO. La irradiación UV continua de 5 KD MWCO mejoró la tasa de flujo de permeado del 45,0% al 59,5 tras 4 horas de funcionamiento. El análisis SEM-EDS también mostró que el efecto fotocatalítico había reducido el espesor medio de la torta de incrustación en la membrana de 6,40 μm a 2,70 μm para 5 KD MWCO y de 6,70 μm a 3,1 μm para 10 KD MWCO. Además, el ángulo de contacto de la membrana se redujo de 54° a 44°. Al parecer, las propiedades fotocatalíticas del TiO2 aumentaron la hidrofilia de la superficie de la membrana, reduciendo así su ensuciamiento.

• Materias:Energía solar Fotoquímica Fotocatálisis Nanoestructuras Optoelectrónica
• Subjects:Solar energy Photochemistry Photocatalysis Nanostructures Optoelectronics
• Palabras claves:kd mwco, irradiación uv continua, dióxido de titanio recubierto, pantalla de cristal líquido, ángulo de contacto de membrana, condiciones óptimas de funcionamiento, tasa de flujo de permeado, transistor de película fina, tio2, análisis eds
• Keywords:kd mwco, continuous uv irradiation, coated titanium dioxide, liquid crystal display, membrane contact angle, optimum operating conditions, permeate flux rate, thin film transistor, tio2, eds analysis