Resumen

Se investigó la estabilidad térmica y el rendimiento tribológico de las películas de carbono tipo diamante incorporadas con silicio y oxígeno. Las películas DLC-Si-O se depositaron mediante el método de implantación iónica por plasma (PBII). Las películas depositadas se recocieron a 400°C, 600°C y 750°C durante 1 hora en vacío, en argón y en aire. Las propiedades de las películas se investigaron mediante espectroscopia de infrarrojos por transformada de Fourier, espectroscopia Raman, espectroscopia de rayos X por dispersión de energía y un probador de fricción de bola sobre disco. Las estructuras de las películas DLC-Si-O con bajo contenido de Si (≤25 at.%Si, ≤1 at.%O) y alto contenido de Si (>25 at.%Si, >1 at.%O) no se vieron afectadas por el recocido térmico en vacío a 400°C y 600°C, respectivamente, mientras que sí se vieron afectadas por el recocido térmico en argón y en aire a 400°C. La película con 34 at.%Si y 9 at.%O después del recocido demostró tener contenidos atómicos casi constantes hasta el recocido a 600°C en vacío. El coeficiente de fricción de las películas de DLC-Si-O con 34 at.%Si y 9 at.%O demostró ser relativamente estable, con un coeficiente de fricción de 0,04 antes del recocido y 0,05 después del recocido a 600°C en vacío. Además, el bajo coeficiente de fricción de la película recocida a 600°C en vacío con 34 at.%Si y 9 at.%O se correspondía con una baja tasa de desgaste de 1,85 × 10-7 mm3/Nm.

• Materias:Aluminio Materiales Soldadura Metales Soldadura de acero Hidróxido de aluminio Zinc (Zn) Zinc
• Subjects:Aluminum Materials Welding Metals Steel - Welding Aluminum hydroxide Zinc (Zn) Zinc
• Palabras claves:at.%si, at.%o, vacío, coeficiente de fricción, película, recocido térmico, bajo coeficiente de fricción, bajo contenido de si, coeficiente de película, alto contenido de si
• Keywords:at.%si, at.%o, vacuum, friction coefficient, film, thermal annealing, low friction coefficient, low si content, coefficient of film, high si content