Resumen

Presentamos una técnica de fabricación directa de dispositivos electrocrómicos (EC) poliméricos estampados mediante litografía blanda, que permite tanto el estampado negativo como el estampado positivo del polímero. Para ello, se emplearon moldes elastoméricos de polidimetilsiloxano (PDMS) no sólo como sellos para la impresión directa por contacto de tintas poliméricas, sino también como plantillas para la humectación de soluciones poliméricas en condiciones experimentales suaves. Se realizaron tanto patrones negativos como positivos de un polímero EC prototípico y se investigaron las características del dispositivo EC en función de los disolventes, las concentraciones de las soluciones y los tipos de patrones. Finalmente, se demostraron con éxito los patrones complejos, que no pueden realizarse mediante los procesos convencionales de enmascaramiento de sombras, y las estructuras de gran superficie. Prevemos que estos resultados se aplicarán al desarrollo de diversos dispositivos y circuitos con patrones, lo que puede dar lugar a nuevas aplicaciones.

• Materias:Propiedades fisicoquímicas Polimerización Ingeniería biomédica Nanoestructuras Liberación de fármacos
• Subjects:Chemicophysical properties Polymerization Biomedical engineering Nanostructures Drug liberation
• Palabras claves:patrón negativo, patrón positivo, procesos convencionales de enmascaramiento de sombras, características de los dispositivos ec, impresión por contacto directo, técnica de fabricación directa, condiciones experimentales suaves, polímero ec prototípico, dispositivos, estructuras de área
• Keywords:negative patterning, positive patterning, conventional shadow masking processes, ec device characteristics, direct contact printing, direct fabrication technique, mild experimental conditions, prototypical ec polymer, devices, area structures