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Study of Radiative Defects Using Current-Voltage Characteristics in ZnO Rods Catalytically Grown on 4H-p-SiCEstudio de defectos radiativos mediante características de corriente-tensión en varillas de ZnO crecidas catalíticamente sobre 4H-p-SiC

Resumen

Se cultivaron barras de ZnO de alta calidad mediante la técnica de vapor-líquido-sólido (VLS) sobre un sustrato de 4H-p-SiC. Los mecanismos de transporte de corriente de los diodos a temperatura ambiente (TA) se han explicado en términos del modelo de corriente de carga espacial limitada basado en el diagrama de bandas de energía de la heteroestructura de barras de ZnO/4H-p-SiC. El mecanismo de tunelización a través de estados de nivel profundo resultó ser el principal proceso de conducción a bajo voltaje aplicado, pero a voltaje límite de llenado de trampas VTFL todas las trampas se llenan y la conducción de corriente espacio-carga-limitada domina el transporte de corriente. A partir de las medidas de tensión de corriente RT, la energía de la trampa de nivel profundo y la concentración de trampas se obtuvieron como ~0,24±0,02 eV y 4,4×1018cm-3, respectivamente. Los estados de nivel profundo observados corresponden al zinc intersticial (Zni ), responsable de la emisión violeta.

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  • Idioma:Inglés
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