Resumen

En este trabajo se estudia un tipo de película de carbono amorfo tetraédrico (ta-C) dopado con boro (ta-C:B). La película de ta-C se prepara mediante la técnica de arco de vacío catódico filtrado (FCVA) y luego se dopa con boro mediante el método de difusión térmica. A continuación, se caracterizan la estructura microcósmica y la conductividad eléctrica del ta-C mediante el método de espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS) y el método de cuatro sondas, respectivamente. Los resultados muestran que la conductividad del ta-C:B aumenta significativamente; la resistividad disminuye de 1,5 × 106 Ω-cm a 350 Ω-cm aproximadamente, mientras que el porcentaje de enlaces sp3 en la película pasa del 87% al 60 pproximadamente. Esto significa que este tipo de película conservó las características mecánicas de las películas de carbono tipo diamante (DLC) y mejoró en gran medida las características eléctricas al mismo tiempo.

• Materias:Aluminio Propiedades fisicoquímicas Hidráulica Agua Ingenierí­a hidráulica Soldadura Hidróxido de aluminio
• Subjects:Aluminum Chemicophysical properties Hydraulics Water Hydraulic engineering Welding Aluminum hydroxide
• Palabras claves:película, arco de vacío catódico, espectroscopia de fotoelectrones de rayos, conductividad del ta, características del diamante, métodos de difusión térmica, ta, porcentaje de sp3, tipo de película, carbono amorfo tetraédrico
• Keywords:film, cathodic vacuum arc, ray photoelectron spectroscopy, conductivity of ta, characteristics of diamond, thermal diffusion methods, ta, percentage of sp3, type of film, tetrahedral amorphous carbon