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Artículo

Study on Nanostructures Induced by High-Current Pulsed Electron BeamEstudio de nanoestructuras inducidas por haz de electrones pulsados de alta corriente

Resumen

Se propusieron cuatro técnicas que utilizan el haz de electrones pulsados de alta corriente (HCPEB) para obtener la nanoestructura superficial de metales y aleaciones. El primer método consiste en la distribución de varias nanopartículas finas de Mg en la superficie superior de las muestras tratadas por evaporación de Mg puro con bajo punto de ebullición. La segunda técnica utiliza el calentamiento, la fusión y el enfriamiento ultrarrápidos inducidos por la irradiación HCPEB para refinar la fase primaria o la segunda fase en aleaciones a fases distribuidas uniformemente de tamaño nanométrico en la matriz, como la fase cuasicristalina Mg30Zn60Y10 en la aleación cuasicristalina Mg67Zn30Y3. La tercera técnica consiste en el refinamiento de la fase de silicio eutéctico en aleaciones hipereutécticas Al-15Si hasta partículas finas con el tamaño de varios nanómetros a través de la solución sólida y el refinamiento por precipitación. Por último, en la zona de deformación inducida por la irradiación HCPEB, el tamaño de grano puede refinarse hasta varios cientos de nanómetros, como el tamaño de grano de las aleaciones Al-15Si hipereutécticas en la zona de deformación, que puede alcanzar ~400 nm tras el tratamiento HCPEB durante 25 pulsos. Por lo tanto, la tecnología HCPEB es una forma eficaz de obtener nanoestructuras superficiales.

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